以及在 V GT = V GS – V TH = 200mV 时本征电压增益(AV = gm /g D ),对于具有不同尺寸(沟道长度 L 和宽度 W)的器件,工作在 300K(RT,红色)和 4.2K(LT,蓝色)。由于 gm 主要由有效迁移率 (µ eff ) [8] 决定,因此对于长 L 器件,测得的 RT 和 LT 增加了 3-5 倍,具体取决于 W。另一方面,g D 的行为由 µ eff 和沟道长度调制的组合决定。由于 gm 和 g D 都与 µ eff 成正比,因此迁移率效应不会反映在 A V 中。随着 L 在 300K 和 4.2K 时的增加,较长 L 的短沟道效应 (SCE) 的降低会改善 g D ,从而改善 AV 。我们观察到的 AV 随 T 的微小差异可以用 SHE 来解释,这将在后面讨论。对于 L = 150nm,我们测量了 LT 和 RT 处的电压增益约为 39dB,这与 FDSOI [9] 的报告值相当。